บทความเกี่ยวกับ ASML

จีนกำลังเข้าใกล้ก้าวสำคัญในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ หลังมีรายงานว่าสามารถพัฒนาเครื่อง EUV Lithography ระดับต้นแบบได้สำเร็จเป็นครั้งแรก แม้ยังไม่พร้อมผลิตชิปเชิงพาณิชย์ และยังต้องพึ่งพาชิ้นส่วนจากเครื่องรุ่นเก่าของ ASML แต่ต้นแบบนี้สามารถสร้างแสง EUV และทำงานได้จริงในระดับหนึ่ง ความก้าวหน้าครั้งนี้เกิดจากการผสานองค์ความรู้เดิมกับการ Reverse Engineering ภายใต้การหนุนจากรัฐ ผู้เชี่ยวชาญมองว่ายังต้องใช้เวลาอีกหลายปีกว่าจะทัดเทียมเชิงพาณิชย์ ทว่าถือเป็นสัญญาณชัดว่าจีนกำลังเร่งลดการพึ่งพาเทคโนโลยีตะวันตก